"가공"의 두 판 사이의 차이

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가공 forming
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<li>반도체 다이싱
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<li>실리콘 웨이퍼
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<li>CIS #1 - 회전 다이아몬드 휠로 절단
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image:cis03_016.jpg | 칩 두께 0.34mm, 두 칩 간격  20um
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image:cis03_017.jpg | 블레이드 다이싱, 수평간격이 0.1mm이므로 30krpm이면 50mm/sec 절단속도
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<li>CIS #2 - 레이저
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image:cis02_006_004.jpg | 센서 경계선
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image:cis02_006_008.jpg | 센서 칩 두께 250um, 레이저 다이싱
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<li>MEMS 마이크
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image:knowles01_007.jpg | 레이저 다이싱 5회
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<li>쏘필터용 웨이퍼
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<li>무라타, 1.4x1.1mm
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image:saw1411_01_002.jpg | 줄무늬 수평 간격이 절단 속도에 비례한다.
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image:saw1411_01_003.jpg | 두께 5% 매우 빠르게, 두께 60% 천전히, 그리고 뒤집어서 다시. 총 4번 다이싱
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image:saw1411_01_004.jpg | 4번 다이싱 때문에, 뒷면 칩핑이 매우 적음
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<li>금속
 
<li>금속
 
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image:air_cylinder02_002.jpg|spin forming
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<li>수지에 구멍 뚫는 법
 
<li>수지에 구멍 뚫는 법
 
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2019년 6월 15일 (토) 16:40 판

가공 forming

  1. 절단
    1. 반도체 다이싱
      1. 실리콘 웨이퍼
        1. CIS #1 - 회전 다이아몬드 휠로 절단
        2. CIS #2 - 레이저
        3. MEMS 마이크
      2. 쏘필터용 웨이퍼
        1. 무라타, 1.4x1.1mm
  2. 금속
    1. 두 회전체 동원
    2. spin forming
      1. SMC 회사 에어 실린더, CDJ2D16-125-B
  3. 수지
    1. 수지에 구멍 뚫는 법