포토마스크

Togotech (토론 | 기여)님의 2022년 9월 2일 (금) 12:25 판

포토마스크

  1. 전자부품
    1. 광관련
      1. 포토마스크 - 이 페이지
        1. CIF2DXF
    2. 참조
      1. IC 표식
      2. TEG
      3. Copyright
  2. 펠리클이 부착되어 있는 어느 (i-라인용)포토마스크
    1. 디지털카메라용 이미지센서 에 사용되는 보호유리 참조
    2. 펠리클;
      1. 사용목적
        1. 이 목적으로 사용되는 very thin membrane을 말한다.
        2. 마스크로부터 일정거리 떨어진 지점에 위치하여 오염물질이 마스크에 직접적으로 부착되는 것을 막는 역할을 하는 동시에, 펠리클 상에 위치한 오염물질이 웨이퍼 상에 전사되지 않도록 탈초점(out of focus) 시키는 역할을 한다.
        3. stand-off distance: 펠리클과 마스크 패턴 사이 거리
      2. 재질
        1. mylar: 1.2um 두께. 350um 이상 파장에서 사용. 200nm 부근에서는 투과율이 급격히 저하된다. 반사index가 1.65로 반사율은 12%. 에너지손실이 4%~10%. 내부산란 등으로 사용하지 않는다.
        2. cellulose 재질로 약 0.72um, 99% 이상 투과율. i-line 이상 파장에서 사용. reflective index는 1.5로 light reflection은 8%, 에너지손실은 약 2%
        3. ArF, KrF 파장에서는, perfluoropolmer 재질로 약 0.84um(ArF) 0.92um(KrF) 두께, 투과율은 99.3, 99.5% 이상 보인다.
      3. 두께: 두께에 따른 optical interference 때문에 노광에너지 편차를 보이므로 파장별로 두께를 정확히 결정해야 한다.
        1. 두께는 1/2nλ이다.
        2. 그래도 단일 색상 조명(monochromatic illumination)을 사용하면 원치않은 standing wave가 발생되어 생각치 못한 변화나 disturbance가 발생되므로, polychromatic illumination 시스템을 사용하는 것이 좋다.
      4. 효과: 약 50um 이물질까지 허용한다.
    3. 펠리클 프레임
      1. 검정색 아노다이징 처리한 알루미늄(7075 재질)
      2. 높이: 1.2mm~6.8mm
      3. 마스크와는 hot melt SEBS(Styrene-Ethylene-Butylene-Styrene) 수지로 접착한다. 자외선에 잘 견디고 고무처럼 유연하다.
    4. 152mm (6인치) 정사각형, 두께 10mm 어떤 포토마스크에서 6mm
  3. 거울로 응용
    1. 색도계에서